半導体製造装置用空気調和装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：岩橋文雄 , 内藤浩樹 , 永野大介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-044216
公開番号（公開出願番号）：特開2009-204176
出願日： 2008年02月26日
公開日（公表日）： 2009年09月10日
要約：

【課題】従来のクリーンルーム用空気調和装置は、冷却コイル、再熱ヒータを有し、冷却コイルで過冷却ぎみに冷却を行う。さらに、室内温度が所定の温度範囲になるよう、再熱ヒータの加熱量を制御するため、過冷却と再熱によるエネルギーの無駄という課題がある。【解決手段】半導体製造装置3内の空気を吸込んで顕熱交換器9を通じた後再び半導体製造装置3内に供給する循環経路4と、クリーンルーム内の空気(CA)を吸込んで顕熱交換器9を通じた後排気するCA経路6を有し、顕熱交換器9は、循環空気とCAが混じりあうことなく交差するような構造で、循環空気とCAとの間で熱交換を行うことによって、循環空気の冷却を行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

クリーンルーム内に設置された半導体製造装置の内部の空気調和を行う空気調和装置であって、製造装置内の空気を循環空気として取り込み、熱交換器を通じた後に、製造装置内に供給する循環経路と、クリーンルーム内の空気(以下、CAと呼ぶ)を取り込み、熱交換器を通じた後に、クリーンルーム中に排気するCA経路を有し、前記熱交換器は、循環空気とCAとの間で熱交換を行い、循環空気を冷却することを特徴とする半導体製造装置用空気調和装置。

IPC (2件)：

F24F 7/06 , F24F 7/08

FI (2件)：

F24F7/06 C , F24F7/08 101B

Fターム (2件)：

3L058BE02 , 3L058BF01

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開昭64-70634号公報

審査官引用 (9件)

局所密閉型清浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-163247 出願人：高砂熱学工業株式会社
冷却装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-043200 出願人：株式会社デンソー
クリーンルーム設備
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-224025 出願人：日立プラント建設株式会社

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