特許
J-GLOBAL ID：200903089478396534
ガス加熱方法及び加熱装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 正緒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-327706
公開番号（公開出願番号）：特開2004-162963
出願日： 2002年11月12日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：
【課題】ガスによる腐蝕を受けず、高速昇温が可能なヒータを用いて、ガスを直接且つ効率的に加熱することができるガス加熱方法、及び小型で省エネ化されたガス加熱装置を提供する。【解決手段】ガスの流路又は加熱室内に平板状のセラミックスヒータ30又はセラミックスヒータを複数組み合わせたヒータユニットを、互い違いの階段状に複数配置してジグザグなガス流路Aを形成し、ガス流路Aに供給されるガスをセラミックスヒータ30又はヒータユニットで直接加熱する。このガス加熱装置10は、NOx含有排ガスや有害又は有毒な排ガスの処理装置において、これらの排ガスやその希釈ガスの加熱に用いることができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
ガスの流路又は加熱室内に平板状のセラミックスヒータ又はセラミックスヒータを複数組み合わせたヒータユニットを配置し、流路又は加熱室に供給されたガスを該セラミックスヒータ又はヒータユニットで加熱することを特徴とするガス加熱方法。
IPC (9件)：
F23G7/06
, B01D53/56
, B01D53/58
, B01D53/68
, B01D53/70
, B01D53/72
, F27B9/36
, F27D11/02
, F27D17/00
F23G7/06 104
, F27B9/36
, F27D11/02
, F27D17/00 104A
, F27D17/00 104G
, B01D53/34 129B
, B01D53/34 131
, B01D53/34 134C
, B01D53/34 134E
, B01D53/34 120D
4D002AA12
, 4D002AA13
, 4D002AA22
, 4D002AA40
, 4D002AC10
, 4D002BA05
, 4D002BA06
, 4D002BA12
, 4D002CA07
, 4D002CA13
, 4D002DA07
, 4D002EA02
, 4K050AA01
, 4K050BA00
, 4K050CD06
, 4K050CD08
, 4K050DA07
, 4K056AA14
, 4K056BB06
, 4K056CA00
, 4K056CA13
, 4K056DB01
, 4K056DB07
, 4K063AA01
, 4K063AA12
, 4K063BA01
, 4K063CA01
, 4K063CA02
, 4K063CA05
, 4K063FA01
, 4K063FA02
, 4K063FA04
, 4K063FA05
