特許
J-GLOBAL ID：200903089481745108
ポリイミドパターンの形成方法、物品、及びハードディスク用サスペンション
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
岸本 達人
, 山下 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-258753
公開番号（公開出願番号）：特開2008-076956
出願日： 2006年09月25日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：
【課題】ネガ型レジストを用いながら、非水溶性の有機溶媒を用いることなく、感光剤を含まないポリイミドのパターンを形成することができる方法を提供する。【解決手段】(A)基板上にポリイミド前駆体層を形成する工程、(B)前記ポリイミド前駆体層上にネガ型レジスト層を形成する工程、(C)前記ネガ型レジスト層を選択的に露光するパターン露光工程、(D)前記ネガ型レジスト層の現像後または現像と同時に、下層のポリイミド前駆体層を選択的に除去しパターン化する現像工程、(E)前記パターン化されたポリイミド前駆体層を少なくとも部分的にイミド化することにより塩基性水溶液又は水溶性塩基性物質に対する溶解性を低下させる工程、(F)前記パターン化されたネガ型レジスト層を塩基性水溶液又は水溶性塩基性物質を用いて剥離する剥離工程、を有するポリイミドパターンの形成方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
下記の(A)〜(F)の工程;
IPC (4件)：
G03F 7/11
, G03F 7/40
, G03F 7/42
, H01L 21/027
G03F7/11 503
, G03F7/40 501
, G03F7/42
, H01L21/30 502R
2H025AB14
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025DA40
, 2H025EA08
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H025FA48
, 2H096AA27
, 2H096AA28
, 2H096BA01
, 2H096CA16
, 2H096EA02
, 2H096GA09
, 2H096HA01
, 2H096LA02
