特許

J-GLOBAL ID：200903089600230472

セラミックス膜の製造方法およびセラミックス膜製造装置

発明者： 木島 健
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (4件)： 布施 行夫 ,  大渕 美千栄 ,  伊奈 達也 ,  竹腰 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-374504
公開番号（公開出願番号）：特開2007-180138
出願日： 2005年12月27日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：

【課題】低温で成膜できるセラミックス膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係るセラミックス膜の製造方法は,基体の上方に材料層を形成する工程と、水蒸気および酸素ガスを含む原料ガスを酸化性ガス製造部30に導入する工程と、酸化性ガス製造部30内のガスを加熱して、酸化炉20内に供給し、材料層を酸化させる工程と,を含む。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基体の上方に材料層を形成する工程と、 水蒸気および酸素ガスを含む原料ガスを酸化性ガス製造部に導入する工程と、 前記酸化性ガス製造部内のガスを加熱して、酸化炉内に供給し、前記材料層を酸化させる工程と、を含む、セラミックス膜の製造方法。

IPC (6件)：

H01L 21/316 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/105 ,  H01G 4/33 ,  H01G 4/12

FI (5件)：

H01L21/316 C ,  H01L21/31 A ,  H01L27/10 444C ,  H01G4/06 101 ,  H01G4/12 400

Fターム (36件)：

5E001AB06 ,  5E001AC10 ,  5E001AE03 ,  5E001AE04 ,  5E001AH01 ,  5E001AH03 ,  5E001AH08 ,  5E001AJ01 ,  5E001AJ02 ,  5E082AB03 ,  5E082EE23 ,  5E082EE35 ,  5E082EE37 ,  5E082FG26 ,  5E082FG46 ,  5E082FG54 ,  5E082KK01 ,  5E082LL01 ,  5E082MM24 ,  5F045AB31 ,  5F045AC11 ,  5F045EB19 ,  5F045HA16 ,  5F058BA11 ,  5F058BC03 ,  5F058BF46 ,  5F058BG02 ,  5F058BH03 ,  5F058BJ02 ,  5F083FR01 ,  5F083GA27 ,  5F083JA15 ,  5F083JA38 ,  5F083JA45 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 圧電体素子、インクジェット式記録ヘッド及びこれらの製造方法並びにインクジェットプリンタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-030472   出願人：セイコーエプソン株式会社

審査官引用 (3件)

• 圧電体素子の製造方法、圧電体素子及びインクジェット式記録ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-275600   出願人：キヤノン株式会社, 富士化学株式会社
• ガス反応装置および表面改質装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-334332   出願人：野村修蔵
• 成膜・熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-328284   出願人：東京エレクトロン株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Synthesis of Highly Oriented Lead Zirconate-Lead Titanate Film Using Metallo-organics.