特許
J-GLOBAL ID：200903089937700144
マスクブランクス用ガラス基板の製造方法及びマスクブランクスの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-040132
公開番号（公開出願番号）：特開2006-224233
出願日： 2005年02月17日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：
【課題】 高い精度で効率のよいマスクブランクス用ガラス基板の製造方法の提供。【解決手段】マスクブランクス用ガラス基板100の製造方法であって、ガラス基板の主表面を研磨するガラス研磨工程を備え、ガラス研磨工程は、主表面を研磨する研磨段階と、ガラス基板の表面側又は裏面側の主表面に光を照射し、表面側の主表面、及び裏面側の主表面のそれぞれからの反射光に基づき、ガラス基板100の厚みを検知する基板厚検知段階と、検知された厚みを予め設定された値と比較して、厚みが予め設定された値、もしくはその値よりも小さくなった場合にガラス研磨工程を終了させる終点判定段階とを有する。10は、研磨装置、12は、研磨部、14は、光照射部、16は、基板厚検知部、18は、終点判定部、20は、洗浄水供給部、24は、下定盤、26は、研磨液供給部、32は、研磨パッド、34は、研磨パッド。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
マスクブランクス用ガラス基板の製造方法であって、
ガラス基板の主表面を研磨するガラス研磨工程を備え、
前記ガラス研磨工程は、
前記主表面を研磨する研磨段階と、
前記ガラス基板の表面側又は裏面側の主表面に光を照射し、前記表面側の主表面、及び前記裏面側の主表面のそれぞれからの反射光に基づき、前記ガラス基板の厚みを検知する基板厚検知段階と、
検知された前記厚みを予め設定された値と比較して、前記厚みが前記予め設定された値、もしくはその値よりも小さくなった場合に前記ガラス研磨工程を終了させる終点判定段階と
を有することを特徴とするマスクブランクス用ガラス基板の製造方法。
IPC (7件)：
B24B 37/04
, B24B 7/17
, B24B 7/24
, B24B 49/02
, B24B 49/04
, B24B 49/12
, G03F 1/14
B24B37/04 K
, B24B7/17 Z
, B24B7/24 Z
, B24B49/02 Z
, B24B49/04 Z
, B24B49/12
, G03F1/14 A
2H095BC26
, 3C034AA13
, 3C034AA17
, 3C034AA19
, 3C034CA02
, 3C034CA22
, 3C034CB01
, 3C034DD01
, 3C034DD08
, 3C043BB05
, 3C043BC06
, 3C043CC07
, 3C043DD06
, 3C058AA07
, 3C058AC02
, 3C058BA01
, 3C058BA07
, 3C058CA01
, 3C058CA06
, 3C058CB01
, 3C058CB03
