特許
J-GLOBAL ID：200903089957779502

液処理装置

発明者：
上川 裕二

上川 裕二 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-392322
公開番号（公開出願番号）：特開2002-198348
出願日： 2000年12月25日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：
【要約】【課題】 従来の基板よりも大型の基板を取り扱うことが可能であり、その際に基板の汚染を抑制した液処理装置を提供する。【解決手段】 液処理装置の一実施形態である洗浄処理装置1は、チャンバ70が配設されたチャンバ室3bと、チャンバ70へ処理液を送液する送液機構等が主に配設されたユーティリティ室3cと、ウエハWを保持するロータ34が配設されたウエハ移載室3aとからなる洗浄処理ユニット3を有する。ウエハ移載室3aの天井部にフィルターファンユニット(FFU)24cを配設し、FFU24cからウエハ移載室3aに供給された空気がチャンバ室3bまたはユーティリティ室3cを通って排気される構造とした。
請求項（抜粋）：
基板を保持する保持手段が配設され、前記保持手段と外部との間で基板の移し替えが行われる基板移載室と、前記基板移載室の天井部に配設された送風機構と、前記基板移載室で移載された基板が搬入され、前記基板に所定の処理液を供給して液処理を行うチャンバが配設されたチャンバ室と、を具備し、前記送風機構から前記基板移載室に供給された空気は、前記基板移載室から前記チャンバ室を通って排気される構造を有することを特徴とする液処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04
FI (3件)：
H01L 21/304 648 J ,  H01L 21/304 648 L ,  B08B 3/04 A
Fターム (9件)：
3B201AA01 ,  3B201AB13 ,  3B201AB23 ,  3B201AB44 ,  3B201BB03 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201CD11 ,  3B201CD22
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 基板処理装置および基板処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-148583   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-328143   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-111586   出願人：東京エレクトロン株式会社
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