特許

J-GLOBAL ID：200903090256652603

粒子線照射システム

発明者： 藤井 祐介 ,  藤巻 寿隆 ,  平本 和夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-164990
公開番号（公開出願番号）：特開2009-000347
出願日： 2007年06月22日
公開日（公表日）： 2009年01月08日
要約：

【課題】標的位置における荷電粒子ビームの照射位置の精度を向上することができ、正常組織への照射を減少させることができる粒子線照射システムを提供することにある。【解決手段】粒子線照射システムは、荷電粒子ビームを出射する加速装置6と、走査磁石24,25と、荷電粒子ビーム位置検出器26,27を有する。制御装置70は、荷電粒子ビーム位置検出器26,27からの信号に基づき、標的位置でのビーム位置を算出し、走査磁石24,25を制御して荷電粒子ビームを標的位置にて所望の照射位置へ移動させる。制御装置70は、所定の周期毎に荷電粒子ビームの位置と角度の情報を基に走査磁石24,25への励磁電流の値を補正する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを出射する加速器と、荷電粒子ビーム走査装置と、荷電粒子ビーム位置検出装置を有する粒子線照射システムであって、 前記荷電粒子ビーム位置検出装置からの信号に基づき、標的位置でのビーム位置を算出し、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御して前記荷電粒子ビームを前記標的位置にて所望の照射位置へ移動させる制御装置を備えたことを特徴とする粒子線照射システム。

IPC (3件)：

A61N 5/10 ,  G21K 5/04 ,  G21K 1/093

FI (6件)：

A61N5/10 D ,  G21K5/04 A ,  G21K5/04 C ,  G21K5/04 S ,  G21K1/093 S ,  A61N5/10 H

Fターム (12件)：

4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AE03 ,  4C082AG09 ,  4C082AG12 ,  4C082AG52 ,  4C082AP01 ,  4C082AP12 ,  4C082AP16 ,  4C082AR07 ,  4C082AR13

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 粒子線治療システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-085862   出願人：株式会社日立製作所
• イオンビーム療法において格子スキャナをフィードバック制御するための装置および方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-611289   出願人：ジーエスアイゲゼルシャフトフュアシュベールイオーネンフォルシュンクエムベーハー

審査官引用 (3件)

• 粒子線照射システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-328864   出願人：株式会社日立製作所
• 粒子線治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-114001   出願人：株式会社日立製作所
• 粒子線治療システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-085862   出願人：株式会社日立製作所