加熱処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-047512
公開番号（公開出願番号）：特開2001-237171
出願日： 2000年02月24日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】蓋体の温度を略均一に維持して、基板に対して均一な加熱処理を施すことができる加熱処理装置を提供すること。【解決手段】基板Wを所定温度に加熱処理する加熱処理装置であって、その表面に基板Wを近接または載置して加熱処理する加熱プレート51と、基板Wの加熱処理時に加熱プレート51の表面を覆い、処理室Sを形成する蓋体62と、この蓋体62内の内部空間62cに作動液66を充填して形成されたヒートパイプ65とを具備している。

請求項（抜粋）：

基板を所定温度に加熱処理する加熱処理装置であって、その表面に基板を近接または載置して加熱処理する加熱プレートと、基板の加熱処理時に加熱プレートの表面を覆い、処理室を形成する蓋体と、この蓋体内の内部空間に作動液を充填して形成されたヒートパイプとを具備することを特徴とする加熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , F28D 15/02

FI (2件)：

F28D 15/02 K , H01L 21/30 567

Fターム (3件)：

5F046AA28 , 5F046KA04 , 5F046KA10

引用特許：

出願人引用 (6件)

熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-007920 出願人：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-226374 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-355379 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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