特許
J-GLOBAL ID：200903090702954163

ノボラック樹脂ブレンドを含むフォトレジスト

発明者：
ジェフリー・エム・カルバート

ジェフリー・エム・カルバート について

, 
ジョセフ・エフ・ラコウスキ

ジョセフ・エフ・ラコウスキ について


出願人/特許権者：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-014797
公開番号（公開出願番号）：特開2009-222733
出願日： 2008年01月25日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】新規なフォトレジスト組成物を有することが望まれる。優良な溶解速度およびフォトスピード特性を示す新規なフォトレジストを有することが、特に望まれる。【解決手段】放射線感受性成分および少なくとも2種の異なるノボラック樹脂を含む、フォトレジスト組成物が提供される。一態様において、本発明のフォトレジストは、例えば水性現像溶液中で1秒あたり800オングストロームを超えるなど、顕著に高い溶解速度を示す。別の態様において、本発明のフォトレジストは、例えば100mJ/cm2以下などの、良好なフォトスピードを示すことができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(i)ジアゾ-ナフトキノン物質を含む放射線感受性成分、および (ii)少なくとも2種の異なるノボラック樹脂、 を含み、 フォトレジストが水性アルカリ性現像液中で1秒あたり800オングストローム以上の溶解速度を示す、フォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/023 ,  H01L 21/027 ,  C08G 8/12
FI (3件)：
G03F7/023 511 ,  H01L21/30 502R ,  C08G8/12
Fターム (23件)：
2H125AF02P ,  2H125AF07P ,  2H125AM80P ,  2H125AN31P ,  2H125AN57P ,  2H125AN59P ,  2H125BA02P ,  2H125BA06P ,  2H125BA31P ,  2H125CA12 ,  2H125CA21 ,  2H125CB06 ,  2H125CC03 ,  2H125CC21 ,  2H125CD10P ,  2H125CD31 ,  4J033CA01 ,  4J033CA05 ,  4J033CA09 ,  4J033CA10 ,  4J033CA12 ,  4J033CA44 ,  4J033CC03
引用特許：
審査官引用 (7件)
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