LCD製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-024427
公開番号（公開出願番号）：特開2004-233846
出願日： 2003年01月31日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】低NA条件下でも、高い解像度でレジストパターンを形成することができ、好ましくはリニアリティの良好な、LCD製造用のレジスト材料を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)ポリスチレン換算質量平均分子量が300〜1300の低分子量ノボラック樹脂とナフトキノンジアジドスルホン酸化合物との、平均エステル化率が30〜90%のエステル化反応生成物、(C)分子量1000以下のフェノール性水酸基含有化合物、(D)有機溶剤、を含む事を特徴とするLCD製造用ポジ型ホトレジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、 (B)ポリスチレン換算質量平均分子量が300〜1300の低分子量ノボラック樹脂とナフトキノンジアジドスルホン酸化合物との、平均エステル化率が30〜90%のエステル化反応生成物、 (C)分子量が1000以下のフェノール性水酸基含有化合物、 (D)有機溶剤、を含む事を特徴とするLCD製造用ポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/023 , C08G8/32 , G03F7/004

FI (3件)：

G03F7/023 501 , C08G8/32 , G03F7/004 501

Fターム (20件)：

2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE02 , 2H025CB52 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 4J033CA02 , 4J033CA12 , 4J033CA13 , 4J033CA28 , 4J033CA29 , 4J033CA44 , 4J033CB18 , 4J033HA02 , 4J033HA12 , 4J033HA28 , 4J033HB10

引用特許：

審査官引用 (5件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-245440 出願人：東京応化工業株式会社
感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-265500 出願人：三菱化学株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-125194 出願人：富士写真フイルム株式会社

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