特許
J-GLOBAL ID：200903025166736771
フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
尾崎 雄三
, 梶崎 弘一
, 谷口 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-122603
公開番号（公開出願番号）：特開2007-304592
出願日： 2007年05月07日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：
【課題】感光速度、残膜率、現像コントラスト、解像度、高分子樹脂の溶解性、基板との接着力及び回路線幅均一度の優れたフォトレジスト組成物。前記フォトレジスト組成物を利用して製造される液晶表示装置または半導体素子。【解決手段】a)下記化学式で示されるノボラック樹脂、b)ジアジド系感光性化合物、及びc)有機溶媒を含むフォトレジスト組成物。(Rは水素、-OHまたは-CH3であり、nは3乃至20の整数である。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
a)下記化学式1で示されるノボラック樹脂、
b)ジアジド系感光性化合物、及び
c)有機溶媒を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。
[化1]
IPC (3件)：
G03F 7/023
, G03F 7/004
, H01L 21/027
G03F7/023
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB29
, 2H025CC03
, 2H025FA17
