特許
J-GLOBAL ID：200903090876814670

洗浄及び乾燥方法

発明者：
嵯峨 幸一郎

嵯峨 幸一郎 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 大澤 斌 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-004328
公開番号（公開出願番号）：特開2003-206497
出願日： 2002年01月11日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：
【要約】【課題】 被処理体の微小構造に損傷を与えることなく、また引火等の危険がなく安全で、かつ大きな洗浄及び乾燥効果で被処理体を洗浄し、乾燥させる方法を提供する。【解決手段】 本方法は、洗浄/乾燥装置の処理室内に収容した、微小構造を有する被処理体を洗浄液で洗浄する工程と、ハイドロフルオロエーテルと5%のイソプロピルアルコールの混合液、又はフッ化アルコール単体を置換液とし、洗浄液を置換液で置換する工程と、置換液を超臨界二酸化炭素で置換する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
微小構造を有する被処理体を洗浄液で洗浄し、次いで超臨界流体によって乾燥する方法であって、洗浄/乾燥装置の処理室内に収容した前記被処理体を洗浄液で洗浄する洗浄工程と、ハイドロフルオロエーテルと前記ハイドロフルオロエーテルより少量の炭素数4以下のアルコールとの混合液、又はフッ化アルコール単体を置換液とし、前記洗浄液を前記置換液で置換する工程と、前記置換液を超臨界流体で置換する工程とを有することを特徴とした洗浄及び乾燥方法。
IPC (6件)：
C11D 7/28 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 17/00 ,  H01L 21/304 651
FI (6件)：
C11D 7/28 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 17/00 ,  H01L 21/304 651 Z
Fターム (17件)：
3B201AA03 ,  3B201AA47 ,  3B201AB45 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD36 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EB03 ,  4H003ED02 ,  4H003ED03 ,  4H003ED28 ,  4H003ED29 ,  4H003FA21
引用特許：
審査官引用 (5件)
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