インプリントリソグラフィ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-296405
公開番号（公開出願番号）：特開2007-182063
出願日： 2006年10月31日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：

【課題】高価な機器や材料を必要とせず微細加工ができるリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】基板を保持するように配置された第1の基板テーブル31および基板を保持するように配置された第2の基板テーブル32と、インプリントテンプレート40を保持するように配置されたインプリントテンプレートホルダ41と、インプリント可能媒体ディスペンサ36とを備え、第1の基板テーブルはインプリント可能媒体ディスペンサにまたはそれに隣接して配置された第1の位置と、前記インプリントテンプレートホルダにまたはそれに隣接して配置された第2の位置との間で移動可能であり、さらに第2の基板テーブルは、第1および第2の基板テーブルが位置を交換するように、該第1の位置と第2の位置との間で移動可能であるリソグラフィ装置が開示されている。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板を保持するように配置された第1の基板テーブルと、基板を保持するように配置された第2の基板テーブルと、インプリントテンプレートを保持するように配置されたインプリントテンプレートホルダと、インプリント可能媒体ディスペンサと、を備え、前記第1の基板テーブルは、前記インプリント可能媒体ディスペンサにまたはそれに隣接して位置する第1の位置と、前記インプリントテンプレートホルダにまたはそれに隣接して位置する第2の位置との間で移動可能であり、前記第2の基板テーブルは、前記第1および第2の基板テーブルが位置を交換するように、前記第1の位置と第2の位置との間で移動可能であるインプリントリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

B29C 59/02 , H01L 21/027

FI (2件)：

B29C59/02 Z , H01L21/30 502D

Fターム (18件)：

4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG03 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AJ08 , 4F209AJ09 , 4F209AP06 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 4F209PQ11 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許第6482742号明細書

審査官引用 (6件)

加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-096991 出願人：キヤノン株式会社
転写方法及び転写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-397108 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立インダストリイズ
ステージ装置、ステージ位置管理方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-366741 出願人：株式会社ニコン

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