特許
J-GLOBAL ID:200903090921741914

酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-251530
公開番号(公開出願番号):特開2004-095223
出願日: 2002年08月29日
公開日(公表日): 2004年03月25日
要約:
【課題】比抵抗が小さい酸化亜鉛系透明導電膜を高い成膜速度で大きな成膜面積に形成することができる製造方法を提供する。【解決手段】圧力勾配型プラズマガンを用いてプラズマビームを供給し、蒸発材料の周囲に設けたビーム修正装置により該プラズマビームを蒸発材料に集中させて、蒸発材料を蒸発、イオン化させるイオンプレーティング法により酸化亜鉛系透明導電膜を製造する。このとき、三酸化二ガリウムを添加した酸化亜鉛を蒸発材料として用い、成膜室の酸素分圧が0.012Pa以下にて成膜する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
イオンプレーティング法による酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法において、ガリウムまたはガリウム化合物を添加した酸化亜鉛を蒸発材料として用い、成膜室の酸素分圧が0.012Pa以下にて成膜することを特徴とする酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
IPC (3件):
H01B13/00 ,  C23C14/08 ,  C23C14/32
FI (4件):
H01B13/00 503B ,  C23C14/08 D ,  C23C14/32 A ,  C23C14/32 B
Fターム (8件):
4K029BA49 ,  4K029BC09 ,  4K029CA03 ,  4K029DD05 ,  4K029EA03 ,  5G323BA02 ,  5G323BB04 ,  5G323BB06
引用特許:
審査官引用 (7件)
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