シクロヘキサンラクトン構造を有する重合性化合物及び重合体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：有賀三幸 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-239969
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064273
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】【解決手段】次の一般式(1)【化1】〔式中、R1 〜R9 は、それぞれ独立して水素原子、シリル基、シアノ基、水酸基、ハロゲン原子又は1価非重合性有機置換基を示し、Aは重合可能な炭素-炭素二重結合を有する基を示す〕で表わされる重合性化合物、これ単独又はこれと共重合可能な化合物とのポリマー及び該ポリマーを含むレジスト組成物。【効果】短波長の露光光源用のレジスト材料のベースポリマーとして有用である。

請求項（抜粋）：

次の一般式(1)【化1】〔式中、R1 〜R9 は、それぞれ独立して水素原子、シリル基、シアノ基、水酸基、ハロゲン原子又は1価の非重合性有機置換基を示し、Aは重合可能な炭素-炭素二重結合を有する基を示す〕で表わされる重合性化合物。

IPC (4件)：

C07D307/77 , C08F 20/28 , G03F 7/027 502 , G03F 7/039

FI (4件)：

C07D307/77 , C08F 20/28 , G03F 7/027 502 , G03F 7/039

Fターム (37件)：

2H025AA00 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 4C037XA01 , 4J100AB02Q , 4J100AB07Q , 4J100AE04Q , 4J100AE09Q , 4J100AJ02Q , 4J100AK32Q , 4J100AL03Q , 4J100AL04Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09Q , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100BA03Q , 4J100BA05Q , 4J100BA16Q , 4J100BA20Q , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100JA37

引用特許：

出願人引用 (2件)

キナ酸誘導体およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-191256 出願人：ソシエテデプロデユイネツスルソシエテアノニム
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-312722 出願人：富士通株式会社

審査官引用 (2件)

キナ酸誘導体およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-191256 出願人：ソシエテデプロデユイネツスルソシエテアノニム
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-312722 出願人：富士通株式会社

引用文献：

出願人引用 (5件)

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審査官引用 (5件)

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