特許
J-GLOBAL ID:200903091107521063
基板搬送容器
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
, 小杉 良二
, 森 友宏
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-590398
公開番号(公開出願番号):特表2004-531064
出願日: 2002年05月16日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
線幅0.13μm以下のIC製造プロセスにおいて、少なくとも微粒子、酸性ガス、塩基性ガス、有機物、湿度を制御された低濃度に保持することが可能で、更に半導体製造工場の自動化に対応した寸法、構造を満足した基板搬送容器を提供する。容器本体の一面に基板搬出入用のドア(1)を備え、基板を前記容器本体内に一定間隔で保持するようにした基板搬送容器において、少なくとも容器内の微粒子濃度とガス状不純物濃度を低減するための空気調整装置を容器本体(6)の側面にほぼ対称に配置した。
請求項(抜粋):
容器本体の一面に基板搬出入用のドアを備え、基板を前記容器本体内に一定間隔で保持するようにした基板搬送容器において、
前記容器内の微粒子濃度とガス状不純物濃度を低減するための空気調整装置を前記容器本体の側面にほぼ対称に配置したことを特徴とする基板搬送容器。
IPC (3件):
H01L21/68
, B01D53/26
, B65D85/86
FI (4件):
H01L21/68 V
, B01D53/26 Z
, B65D85/38 R
, B65D85/38 S
Fターム (37件):
3E096AA06
, 3E096BA16
, 3E096BA17
, 3E096BA20
, 3E096BB04
, 3E096CA02
, 3E096CB03
, 3E096CC02
, 3E096DA05
, 3E096DA17
, 3E096DA23
, 3E096DB01
, 3E096FA01
, 3E096FA02
, 3E096FA03
, 3E096FA07
, 3E096FA40
, 3E096GA01
, 4D052AA00
, 4D052EA06
, 5F031CA02
, 5F031DA01
, 5F031DA08
, 5F031EA02
, 5F031EA03
, 5F031EA14
, 5F031FA01
, 5F031FA03
, 5F031GA18
, 5F031NA03
, 5F031NA04
, 5F031NA07
, 5F031NA10
, 5F031NA11
, 5F031NA13
, 5F031PA21
, 5F031PA23
引用特許: