特許
J-GLOBAL ID:200903091131490934

赤外線検知素子とその製造方法及びその製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 和泉 良彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-008264
公開番号(公開出願番号):特開2003-207391
出願日: 2002年01月17日
公開日(公表日): 2003年07月25日
要約:
【要約】【課題】赤外線吸収膜の赤外線吸収率を高めることができる赤外線検知素子とその製造方法及びその製造装置を提供する。【解決手段】赤外線吸収膜104を有し、入射赤外線エネルギーを赤外線吸収膜104において熱エネルギーに変換し、入射赤外線強度を検知する赤外線検知素子において、赤外線吸収膜104は、複数の膜厚極大点を有し、膜厚極大点と膜厚極小点との膜厚差、及び膜厚極大点の同一平面上の間隔が、干渉または散乱効果により実効的反射率が軽減するように設定され、複数の膜厚極大点と、膜厚極小点との膜厚差は、被測定赤外線波長の1/4と同等または1/4より大きく、複数の膜厚極大点の同一平面上の間隔は被測定赤外線波長よりも短くなっている。
請求項(抜粋):
赤外線吸収膜を有し、入射赤外線エネルギーを前記赤外線吸収膜において熱エネルギーに変換し、入射赤外線強度を検知する赤外線検知素子において、前記赤外線吸収膜は、複数の膜厚極大点を有し、前記膜厚極大点と膜厚極小点との膜厚差、及び前記膜厚極大点の同一平面上の間隔が、干渉または散乱効果により実効的反射率が軽減するように設定してあることを特徴とする赤外線検知素子。
IPC (7件):
G01J 1/02 ,  G01J 5/02 ,  H01L 27/14 ,  H01L 35/14 ,  H01L 35/32 ,  H01L 35/34 ,  H04N 5/33
FI (7件):
G01J 1/02 C ,  G01J 5/02 B ,  H01L 35/14 ,  H01L 35/32 A ,  H01L 35/34 ,  H04N 5/33 ,  H01L 27/14 K
Fターム (25件):
2G065AB02 ,  2G065BA11 ,  2G065BA33 ,  2G065BA34 ,  2G065BB24 ,  2G065CA13 ,  2G065DA20 ,  2G066BA08 ,  2G066BA51 ,  2G066BA55 ,  2G066BB09 ,  2G066CA02 ,  4M118AA01 ,  4M118AB10 ,  4M118BA06 ,  4M118BA07 ,  4M118CB12 ,  5C024AX02 ,  5C024AX06 ,  5C024CX41 ,  5C024CY47 ,  5C024EX11 ,  5C024EX15 ,  5C024EX42 ,  5C024HX35
引用特許:
審査官引用 (15件)
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