支持体の表面処理方法及びその装置並びに表面処理した支持体

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-111058
公開番号（公開出願番号）：特開2000-248091
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：

【要約】【課題】支持体の超高速搬送においても、支持体表面の接着性を向上させ、支持体への極性官能基の付与効率が高く、効率的な且つ均一な表面処理ができる支持体の表面処理方法及びその装置並びに表面処理した支持体を提供すること。【解決手段】連続搬送される長尺状の支持体1を大気圧もしくはその近傍の圧力下、連続的にプラズマ処理する処理部2を有する支持体1の表面処理方法において、該処理部2が前記支持体1の入口と出口を有する処理室であり、該処理室内の支持体1にパルス化された電界を印加して表面処理する際に、該処理室に封入する処理ガス中の反応ガスの割合が30%以上であり、該処理室内の気圧が外圧より高いことを特徴とする支持体の表面処理方法及び装置並びに前記方法及び装置で表面処理した支持体である。

請求項（抜粋）：

連続搬送される長尺状の支持体を大気圧もしくはその近傍の圧力下、連続的にプラズマ処理する方法において、パルス化された電界を用いて空気中で処理することを特徴とする支持体の表面処理方法。

IPC (6件)：

C08J 7/00 306 , C08J 7/00 CEP , C08J 7/00 CES , C08J 7/00 CFD , B01J 19/08 , C08J 5/18

FI (6件)：

C08J 7/00 306 , C08J 7/00 CEP , C08J 7/00 CES , C08J 7/00 CFD , B01J 19/08 E , C08J 5/18

Fターム (32件)：

4F071AA09 , 4F071AA15 , 4F071AA20 , 4F071AA45 , 4F071AA46 , 4F071AG16 , 4F071AH19 , 4F071BA01 , 4F071BB02 , 4F071BC01 , 4F073AA01 , 4F073BA03 , 4F073BA07 , 4F073BA08 , 4F073BA23 , 4F073BA24 , 4F073BB01 , 4F073CA01 , 4F073CA04 , 4F073CA05 , 4F073CA31 , 4F073CA69 , 4F073CA72 , 4F073GA11 , 4G075AA29 , 4G075AA30 , 4G075CA14 , 4G075CA47 , 4G075EC21 , 4G075ED04 , 4G075ED11 , 4G075FB13

引用特許：

審査官引用 (6件)

基体の表面処理方法及びその装置並びに表面処理した基体
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-374256 出願人：コニカ株式会社
大気圧プラズマ発生装置及びその装置を用いた大気圧プラズマ発生方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-125408 出願人：松下電工株式会社, 小駒益弘
ポリマー支持体の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-027724 出願人：イーストマンコダックカンパニー

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