特許
J-GLOBAL ID：200903091304007770

平面型光導波路及びその製造方法

発明者：
石井 裕

石井 裕 について


出願人/特許権者：
株式会社フジクラ

株式会社フジクラ について


代理人 (1件)： 伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-165901
公開番号（公開出願番号）：特開2000-352635
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：
【要約】【課題】 ファイバとの結合損や界面荒れによる導波損,偏波依存性等を大きくすることなく、曲げ損失を効果的に低減した平面型光導波路を提供する。【解決手段】 基板1のクラッド層2上に曲がり部3bを有するコア層3をパターン形成し、コア層3が形成された基板1を高圧水素ガス雰囲気に晒してコア層3に水素を添加し、コア層3の曲がり部3bに紫外線を照射して曲がり部3bの屈折率を直線部3a,3cに比べて大きくした後、コア層3を覆って上部クラッド層4を形成する。
請求項（抜粋）：
少なくとも表面部に下部クラッド層を有する基板と、この基板の前記下部クラッド層上に曲がり部を有するようにパターン形成されたコア層と、このコア層を覆って形成された上部クラッド層とを有し、前記コア層の前記曲がり部が水素添加と紫外線照射により他の部分に比べて屈折率が大きく設定されていることを特徴とする平面型光導波路。
IPC (2件)：
G02B 6/122 ,  G02B 6/13
FI (2件)：
G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 M
Fターム (4件)：
2H047KA04 ,  2H047KA12 ,  2H047PA11 ,  2H047TA31
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM