処理装置及び処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-111330
公開番号（公開出願番号）：特開平8-281184
出願日： 1995年04月12日
公開日（公表日）： 1996年10月29日
要約：

【要約】【目的】被処理基板の塗布・現像処理のスループットの向上及び製品歩留まりの向上を図り、かつ、装置の小型化を図る。【構成】角形状の基板Gの表面にレジスト液を塗布する塗布機構1と、レジスト液が塗布された基板Gの縁部両面に除去液を噴射して塗布膜を除去する縁部除去機構2とを隣接して配設し、塗布機構1への基板Gの搬入と縁部除去機構2からの基板Gの搬出を行う第1の搬送機構3と、塗布機構1から縁部除去機構2へ基板Gを搬送する第2の搬送機構4を設ける。これにより、第1の搬送機構3によって基板Gを塗布機構1に搬入した後、基板Gの表面にレジスト液を塗布し、その後、第2の搬送機構4によって基板Gを縁部除去機構2に搬送した後、基板Gの対向する2辺の縁部両面の不要なレジスト膜を除去することができ、第1の搬送機構3によって基板Gを縁部除去機構2から搬出することができる。

請求項（抜粋）：

角形の被処理基板の一面を上に向けて保持する水平回転及び垂直移動可能な保持手段と、この保持手段を包囲するカップ状をなし保持手段と共に回転する処理容器及びこの処理容器の開口部を閉止する蓋体とを有する塗布機構と、上記被処理基板に塗布液を供給する塗布液供給手段と、上記塗布液の塗布膜が形成された上記被処理基板の縁部に除去液を噴射して塗布膜を除去する縁部除去機構と、上記塗布機構への被処理基板の搬入と上記縁部除去機構からの被処理基板の搬出を行う第1の搬送機構と、上記塗布機構から縁部除去機構へ被処理基板を搬送する第2の搬送機構と、を具備することを特徴とする処理装置。

IPC (5件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 , B05D 3/12 , G03F 7/16 501 , H01L 21/027

FI (6件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 A , B05D 3/12 E , G03F 7/16 501 , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 564 D

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平4-045865
基板端縁洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-357131 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
角形基板の洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-209690 出願人：東京応化工業株式会社

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