真空処理装置および真空処理方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-204172
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017478
出願日： 2001年07月05日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：

【要約】【課題】真空部分に有機物が存在していても被処理体に対する有機汚染が生じ難い真空処理装置および真空処理方法を提供すること。【解決手段】真空下で被処理体に所定の処理を施す真空処理装置100は、被処理体であるウエハWを真空に保持するウエハ搬送室5と、ウエハ搬送室5を真空排気する排気機構42と、ウエハ搬送室5内にパージガスを供給するパージガス供給機構44と、ウエハ搬送室5内の圧力を制御するニードルバルブ45とを具備し、ウエハ搬送室5に対して、排気機構42による排気と、パージガス供給機構44によるパージガス供給を行いつつ、ニードルバルブ45によりウエハ搬送室5内の圧力を制御する。

請求項（抜粋）：

真空下で被処理体に所定の処理を施す真空処理装置であって、被処理体を真空に保持する真空容器と、前記真空容器を真空排気する排気手段と、前記真空容器内にパージガスを供給するパージガス供給手段と、前記真空容器内の圧力を制御する制御手段とを具備し、前記真空容器に対して、前記排気手段による排気と、前記パージガス供給手段によるパージガス供給を行いつつ、前記制御手段により前記真空容器内の圧力を制御することを特徴とする真空処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 , B65G 49/00 , C23C 16/44 , H01L 21/285 , H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/31 B , B65G 49/00 A , C23C 16/44 F , H01L 21/285 C , H01L 21/68 A

Fターム (36件)：

4K030GA12 , 4K030KA28 , 4K030LA15 , 4M104BB14 , 4M104BB18 , 4M104DD43 , 4M104DD44 , 4M104EE16 , 4M104HH00 , 5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA43 , 5F031GA48 , 5F031JA47 , 5F031MA04 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031MA32 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031NA09 , 5F031NA17 , 5F031PA26 , 5F045AA06 , 5F045BB14 , 5F045DQ17 , 5F045EB08 , 5F045EB09 , 5F045EB12 , 5F045EE14 , 5F045EG02 , 5F045EN02 , 5F045EN04

引用特許：

審査官引用 (4件)

真空排気方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-089933 出願人：東京エレクトロン株式会社
真空排気方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-196824 出願人：東京エレクトロン株式会社
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-255467 出願人：株式会社荏原製作所

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