特許

J-GLOBAL ID：200903091469729410

マルチゾーン抵抗ヒータ

発明者： スティーヴン エイファ チェン ,  ヘンリー ホー ,  マイケル エックス. ヤン ,  ブルース ダブリュー. ペウス ,  カール リットー ,  ユー チャン
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-145234
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059848
出願日： 2000年05月19日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 加熱装置【解決手段】ウエハを支持するための領域を有する表面と本体とを備えたステージと、ステージに連結されたシャフトと、第1および第2の加熱部材とを備えている。第1の加熱部材は、ステージの本体の第1の面内に配置されている。第2の加熱部材は、第1の加熱部材よりもステージの表面から離れたステージの本体の第2の面内に配置されている。反応装置は、チャンバと、抵抗ヒータと、第1の温度センサと、第2の温度センサとを備えている。CVD装置のための抵抗加熱システムは抵抗ヒータを備えている。反応装置内の温度を制御するための方法は、反応装置のチャンバ内に抵抗ヒータを設け、少なくとも2つの温度センサを用いて温度を測定し、第1の温度センサおよび第2の温度センサによって測定された温度にしたがって、第1の加熱部材および第2の加熱部材に供給される電力を調整することにより、反応装置内の温度を制御する。

請求項（抜粋）：

ウエハを支持するための領域を有する表面と本体とを備えたステージと、ステージに連結されたシャフトと、ステージの本体の第1の面内に配置された第1の加熱部材と、本体の第1の面よりもステージの表面から離れたステージの本体の第2の面内に配置された第2の加熱部材とを備える装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  H05B 3/00 310 ,  H05B 3/00 370 ,  H05B 3/10

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  H05B 3/00 310 E ,  H05B 3/00 370 ,  H05B 3/10 A

Fターム (20件)：

3K058AA86 ,  3K058BA14 ,  3K058BA19 ,  3K058CE21 ,  3K058CE23 ,  3K058CE26 ,  3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092QB11 ,  3K092QB31 ,  3K092QC03 ,  3K092QC16 ,  3K092QC26 ,  3K092TT02 ,  3K092UB04 ,  3K092VV22 ,  5F045BB02 ,  5F045DP02 ,  5F045EK08 ,  5F045EK22

引用特許：

審査官引用 (11件)

• 特開昭63-278322
  
• 特開昭63-278322
  
• ウエハ保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-079219   出願人：京セラ株式会社
• 複層セラミックスヒーター
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-154349   出願人：信越化学工業株式会社
• 被加熱型基板支持構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-102018   出願人：アプライドコマツテクノロジー株式会社
• ウェハ保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-041024   出願人：京セラ株式会社
• 高温、大流量化学気相堆積装置及び関連する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-049956   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• サセプタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-041149   出願人：山形日本電気株式会社
• ガス処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-352053   出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
• 特開昭63-278322
  
• 特開昭63-278322