特許
J-GLOBAL ID：200903091624062320

透明導電膜積層体及びその製造方法並びに該透明導電膜積層体を用いた物品

発明者：
伊藤 博人

伊藤 博人 について

, 
辻 稔夫

辻 稔夫 について

, 
清村 貴利

清村 貴利 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-107758
公開番号（公開出願番号）：特開2003-303520
出願日： 2002年04月10日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：
【要約】【課題】 高い透明性、導電率、基材への密着性をもつ高性能な透明導電膜を高い生産性で、かつ環境負荷を低くしつつ生産する製造方法及びその製造方法により製造された透明導電膜積層体とそれを用いた物品を提供する。【解決手段】 透明基材上に、プライマー層、ガスバリヤ層及び透明導電層を積層してなる透明導電膜積層体の製造方法において、大気圧または大気圧近傍の圧力下で、少なくとも1種類以上の不活性ガスと、少なくとも1種類以上の有機金属化合物及び少なくとも1種類以上の反応性ガスからなる混合ガスを放電空間に導入してプラズマ状態にして該透明基材を晒すことによって、該透明基材上に該プライマー層、ガスバリヤ層及び透明導電層を順次独立に形成することを特徴とする透明導電膜積層体の製造方法。
請求項（抜粋）：
透明基材上に、プライマー層及び透明導電層を積層してなる透明導電膜積層体の製造方法において、大気圧または大気圧近傍の圧力下で、少なくとも1種類以上の不活性ガスと、少なくとも1種類以上の有機金属化合物及び少なくとも1種類以上の反応性ガスからなる混合ガスを放電空間に導入してプラズマ状態にして該透明基材を晒すことによって、該透明基材上に該プライマー層を形成し、更に、大気圧または大気圧近傍の圧力下において、少なくとも1種類以上の不活性ガスと、少なくとも1種類以上の有機金属化合物及び少なくとも1種類以上の反応性ガスからなる混合ガスを放電空間に導入してプラズマ状態にして上記透明基材上にプライマー層を形成した基材を晒すことによって、該プライマー層上に該透明導電層を形成することを特徴とする透明導電膜積層体の製造方法。
IPC (5件)：
H01B 13/00 503 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 9/00 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 5/14
FI (5件)：
H01B 13/00 503 B ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 9/00 Z ,  G02F 1/1343 ,  H01B 5/14 A
Fターム (53件)：
2H092HA04 ,  2H092MA08 ,  4F100AA01D ,  4F100AA19 ,  4F100AA25C ,  4F100AA28C ,  4F100AA33C ,  4F100AB04 ,  4F100AB10C ,  4F100AB10D ,  4F100AB11D ,  4F100AB12D ,  4F100AB13D ,  4F100AB17D ,  4F100AB19D ,  4F100AB21D ,  4F100AB22C ,  4F100AH08B ,  4F100AK01A ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EA02A ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ542 ,  4F100EJ61 ,  4F100EJ612 ,  4F100EJ86 ,  4F100EJ862 ,  4F100GB41 ,  4F100JD02D ,  4F100JG01 ,  4F100JG01C ,  4F100JL11 ,  4F100JM01C ,  4F100JM02B ,  4F100JN01 ,  4F100JN01A ,  4F100JN01C ,  4F100YY00C ,  5G307FA02 ,  5G307FB00 ,  5G307FC05 ,  5G323AA00 ,  5G323BB06
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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