特許
J-GLOBAL ID：200903092035389170
インジウム・スズ酸化物膜用スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-342597
公開番号（公開出願番号）：特開平7-166341
出願日： 1993年12月14日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：
【要約】【目的】 熱処理工程を要せずに、SnO2相当の中間化合物の存在を低減する。【構成】 スズ量が2〜6wt%に調整された平均粒径0.1μm以下の酸化インジウム-酸化スズ複合粉末をプレス成形した後、1〜10気圧の加圧酸素雰囲気中、1500〜1700°Cで焼結することにより、実質的にインジウム、スズおよび酸素からなる焼結体であり、相対密度が90%以上で単相構造を有するインジウム・スズ酸化物膜用スパッタリング用ターゲットが得られる。
請求項（抜粋）：
実質的にインジウム、スズおよび酸素からなる焼結体であり、相対密度が90%以上で単相構造を有し、比抵抗値が1×10-3Ω・cm以下であることを特徴とするインジウム・スズ酸化物膜用スパッタリング用ターゲット。
IPC (2件)：
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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