ステージの位置決め装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-369519
公開番号（公開出願番号）：特開平11-194824
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】微細な位置決め動作を安定に行うことができるステージの位置決め装置を提供する。【解決手段】ビームBが照射される試料Wを載せるステージ11と、ステージ11を非接触で浮上支持すると共に移動制御するアクチュエータ12a,12b,12c,12dと、ステージ11とアクチュエータ12a,12b,12c,12dとの相対変位を測定する第1のセンサ13と、ビームBの試料上の実際の照射位置と目標照射位置との相対変位を測定する第2のセンサ36と、センサ36により検出された相対変位を減少させるようにステージを移動制御するコントローラ15とを備えた。

請求項（抜粋）：

ビームが照射される試料を載せるステージと、該ステージを非接触で浮上支持すると共に移動制御するアクチュエータと、前記ステージと前記アクチュエータとの相対変位を測定する第1のセンサと、前記ビームの前記試料上の実際の照射位置と目標照射位置との相対変位を測定する第2のセンサと、該センサにより検出された相対変位を減少させるように前記ステージを移動制御するコントローラとを備えたことを特徴とするステージの位置決め装置。

IPC (6件)：

G05D 3/00 , G05D 3/12 , G05D 3/12 304 , H01L 21/027 , H01L 21/68 , H02P 5/00 101

FI (6件)：

G05D 3/00 B , G05D 3/12 H , G05D 3/12 304 , H01L 21/68 K , H02P 5/00 101 B , H01L 21/30 515 G

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-054489
位置決め方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-178630 出願人：株式会社ニコン
磁気浮上型ステージ
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-166345 出願人：株式会社ニコン

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