特許

J-GLOBAL ID：200903092094176449

基板処理装置

発明者： 枦木 憲ニ ,  山本 聡 ,  小山 康文
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-329925
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101058
出願日： 2003年09月22日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】 露光後の加熱処理を速やかに行い、また、露光装置に熱的悪影響を及ぼすことを回避できる基板処理装置を提供する。【解決手段】 露光された基板を加熱処理する加熱部を現像処理ブロック4に設けることにより、この加熱部と露光装置STPとの間にインターフェイスブロック5を介在させて、露光装置STPに熱的影響が及ばないようにする。また、加熱部に対して基板を受け渡しする搬送機構10Dをインターフェイスブロック5に設けて、露光された基板Wを速やかに加熱部に移送する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に現像処理を施す現像処理部を含む処理装置本体と、この処理装置本体と外部装置である露光装置との間で基板の受け渡しを仲介するインターフェイス部と、露光された基板を現像処理する前に加熱処理する加熱手段と、前記加熱手段で加熱処理された基板を冷却する冷却手段とを備えた基板処理装置において、 前記加熱手段を前記処理装置本体に備え、この加熱手段に対して基板を渡す基板搬送機構をインターフェイス部に備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  H01L21/68

FI (3件)：

H01L21/30 562 ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 568

Fターム (24件)：

5F031CA01 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA07 ,  5F031MA09 ,  5F031MA24 ,  5F031MA27 ,  5F031MA28 ,  5F031PA11 ,  5F046KA10 ,  5F046LA18

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-323704   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-173302   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (3件)

• 加熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-000244   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-186075   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-298503   出願人：東京エレクトロン株式会社