有機金属化学蒸着法用ルテニウム化合物及び該化合物により得られたルテニウム含有薄膜

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須田正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-360297
公開番号（公開出願番号）：特開2003-160865
出願日： 2001年11月27日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：

【要約】【課題】固体昇華法を用いた有機金属化学蒸着法により成膜速度及び成膜速度の再現性を制御し得る有機金属化学蒸着法用ルテニウム化合物及び該化合物により得られたルテニウム含有薄膜を提供する。【解決手段】有機金属化学蒸着法用ルテニウム化合物がビス(シクロペンタジエニル)ルテニウムからなるルテニウム化合物であって、化合物の粒径が0.02〜5.5mm、平均粒径が0.03〜5.0mmである。

請求項（抜粋）：

ビス(シクロペンタジエニル)ルテニウムからなるルテニウム化合物であって、前記化合物の粒径が0.02〜5.5mm、平均粒径が0.03〜5.0mmであることを特徴とする有機金属化学蒸着法用ルテニウム化合物。

IPC (3件)：

C23C 16/18 , C07F 15/00 , C07F 17/02

FI (3件)：

C23C 16/18 , C07F 15/00 A , C07F 17/02

Fターム (10件)：

4H050AA01 , 4H050AA03 , 4H050AB78 , 4H050AB91 , 4H050WB11 , 4H050WB21 , 4K030AA11 , 4K030BA01 , 4K030EA01 , 4K030FA10

引用特許：

審査官引用 (5件)

化学気相蒸着用の有機金属化合物及びその有機金属化合物の製造方法並びにその有機金属化合物を用いた薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-302360 出願人：田中貴金属工業株式会社
薄膜製造装置及び薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-353499 出願人：株式会社東芝
重金属被膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-264973 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ

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