特許

J-GLOBAL ID：200903092258155065

高誘電率薄膜エッチング剤組成物

発明者： 山田 健二 ,  大戸 秀
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (1件)： 永井 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-084472
公開番号（公開出願番号）：特開2004-296593
出願日： 2003年03月26日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】高誘電率薄膜を用いた半導体装置、特にMOSFETの高集積化と高速化に不可欠な極薄ゲート絶縁膜層、ゲート電極を用いた半導体装置の製造工程に使用される高誘電率薄膜エッチング剤組成物を提供する。【解決手段】酸化剤、キレート剤および水溶性フッ素化合物を含有する水溶液である高誘電率薄膜のエッチング剤組成物。

請求項（抜粋）：

酸化剤、キレート剤および水溶性フッ素化合物を含有する水溶液である高誘電率薄膜のエッチング剤組成物。

IPC (1件)：

H01L21/308

FI (1件)：

H01L21/308 E

Fターム (3件)：

5F043AA37 ,  5F043BB25 ,  5F043GG10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 高誘電率薄膜エッチング剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-092794   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• ペロブスカイト型酸化物のエッチング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-098333   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 誘電体素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-060515   出願人：松下電器産業株式会社
• 酸化アルミニウム用エッチング液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-132200   出願人：住友化学工業株式会社