特許
J-GLOBAL ID:200903092480325009
有機膜形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山口 邦夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-154101
公開番号(公開出願番号):特開2003-347047
出願日: 2002年05月28日
公開日(公表日): 2003年12月05日
要約:
【要約】【課題】 ガス化した有機原料を基板に供給する際、基板全面に原料ガスを供給できるようにする。【解決手段】 膜形成チャンバー2には、原料ガスを放出するディフューザ7a〜7dが設けられる。このディフューザ7a〜7dに対向して基板3が設けられる。この基板3を保持する基板ホルダ4は、基板3を垂直に保持し、かつ、ディフューザ7の並びに沿って、基板3をスライド移動させる。これにより、ディフューザ7a〜7dから放出した原料ガスが基板3の全面に供給される。
請求項(抜粋):
基板上に有機物の薄膜を形成する有機膜形成装置において、前記基板が収納される膜形成チャンバーと、前記基板と対向配置され、ガス化した有機原料を放出する複数の放出手段と、前記膜形成チャンバーに設けられ、前記基板を垂直に保持するとともに、前記放出手段に対して前記基板をスライド移動させる保持手段とを備えることを特徴とする有機膜形成装置。
IPC (4件):
H05B 33/10
, B05B 13/02
, C23C 14/12
, H05B 33/14
FI (4件):
H05B 33/10
, B05B 13/02
, C23C 14/12
, H05B 33/14 A
Fターム (16件):
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4F035CB02
, 4F035CB13
, 4F035CB16
, 4F035CB23
, 4F035CC01
, 4F035CC04
, 4K029BA62
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DA06
, 4K029DB14
, 4K029JA01
, 4K029JA02
引用特許:
審査官引用 (10件)
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特開平4-191362
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特開平4-323362
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特開平4-323367
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真空成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-109950
出願人:シャープ株式会社
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基板処理装置及び基板搬送用トレイの搬送制御方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-318446
出願人:シャープ株式会社
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薄膜の成膜方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-138347
出願人:キヤノン株式会社
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有機薄膜の低圧蒸着
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-521253
出願人:ザトラスティーズオブプリンストンユニバーシティ
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特開平4-191362
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特開平4-323362
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特開平4-323367
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