特許
J-GLOBAL ID：200903092531113001
プラスチック基板上の金属微細パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-227660
公開番号（公開出願番号）：特開2003-078235
出願日： 2002年08月05日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：
【要約】【課題】 プラスチック基板上に金属微細パターンを安定的に形成することを目的とする。【解決手段】 無機基板上に金属を蒸着して金属微細パターンを製作し、無機基板上に形成された金属微細パターンの表面又はこれと接触されるプラスチック基板の表面のうち少なくとも一方を表面処理して表面を化学的に活性化させて、前記金属微細パターンをプラスチック基板と接触させ、金属微細パターンをプラスチック基板の表面へ転写することを含む、プラスチック基板上に金属微細パターンを形成する方法を提供する。
請求項（抜粋）：
無機基板上に金属を蒸着して金属微細パターンを製作し、無機基板上に形成された金属微細パターンの表面又はこれと接触されるプラスチック基板の表面のうち少なくとも一方を表面処理して表面を化学的に活性化させて、前記金属微細パターンをプラスチック基板と接触させ、金属微細パターンをプラスチック基板の表面へ転写することを含む、プラスチック基板上に金属微細パターンを形成する方法。
Fターム (11件)：
5E343AA16
, 5E343BB23
, 5E343BB24
, 5E343BB25
, 5E343EE35
, 5E343EE36
, 5E343EE45
, 5E343EE46
, 5E343EE52
, 5E343GG08
, 5E343GG11
