特許
J-GLOBAL ID：200903092833183939
平版印刷版用支持体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-090961
公開番号（公開出願番号）：特開2002-283763
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：
【要約】【課題】 耐刷性および耐汚れ性の優れた平版印刷版用支持体の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも、粗面化処理工程および陽極酸化処理工程を経て製造される平版印刷版用支持体の製造方法であって、前記粗面化処理工程が、少なくとも、アルカリエッチング処理工程(A)、電解粗面化処理工程およびアルカリエッチング処理工程(B)を順次有し、前記アルカリエッチング処理工程(A)におけるアルカリエッチング処理により、エッチング量を1〜20g/m2とし、前記電解粗面化処理工程における電解粗面化処理により、未エッチ率を30%以下とし、平均ピット径0.1〜1.2μmおよび平均ピット深さ0.05〜0.6μmのピットを形成し、前記アルカリエッチング処理工程(B)におけるアルカリエッチング処理により、エッチング量を0.01〜1.0g/m2とすることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法である。
請求項（抜粋）：
少なくとも、粗面化処理工程および陽極酸化処理工程を経て製造される平版印刷版用支持体の製造方法であって、前記粗面化処理工程が、少なくとも、アルカリエッチング処理工程(A)、電解粗面化処理工程およびアルカリエッチング処理工程(B)を順次有し、前記アルカリエッチング処理工程(A)におけるアルカリエッチング処理により、エッチング量を1〜20g/m2とし、前記電解粗面化処理工程における電解粗面化処理により、未エッチ率を30%以下とし、平均ピット径0.1〜1.2μmおよび平均ピット深さ0.05〜0.6μmのピットを形成し、前記アルカリエッチング処理工程(B)におけるアルカリエッチング処理により、エッチング量を0.01〜1.0g/m2とすることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。
IPC (5件)：
B41N 3/03
, B41N 1/08
, C23F 1/36
, C25D 11/16 301
, C25F 3/04
B41N 3/03
, B41N 1/08
, C23F 1/36
, C25D 11/16 301
, C25F 3/04 D
2H114AA04
, 2H114AA14
, 2H114BA02
, 2H114EA03
, 2H114EA04
, 2H114GA03
, 2H114GA05
, 2H114GA08
, 2H114GA09
, 2H114GA36
, 4K057WA05
, 4K057WB05
, 4K057WE22
, 4K057WG02
, 4K057WG03
, 4K057WN06
, 4K057WN10
