特許
J-GLOBAL ID：200903092934696325

パターン形成方法

発明者：
相馬 宗尚

相馬 宗尚 について

, 
鈴木 学

鈴木 学 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-128981
公開番号（公開出願番号）：特開2008-286828
出願日： 2007年05月15日
公開日（公表日）： 2008年11月27日
要約：
【課題】パターン幅の微細化、パターンの3次元化が可能なパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明のパターン形成方法は、現像処理により意図的にレジストパターンを倒壊させることを特徴とする。本発明の構成によれば、レジストパターンの間隔と、レジストパターンの厚みを適宜選択することにより、単一のリソグラフィ工程で、3次元的な高さを持った微細パターンや、露光光の解像限界以下のパターン幅を持った微細パターンを形成することが出来る。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
レジストを用いて微細なパターンを形成するパターン形成方法において、 基材にレジストを塗布する工程と、 前記レジストを露光し、レジストパターンを描画する工程と、 前記レジストパターンを現像処理する工程と、を含み、 前記現像処理を行う工程は、現像処理により意図的にレジストパターンを倒壊させる工程であること を特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
G03F 7/30 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/30 ,  H01L21/30 569F
Fターム (17件)：
2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096EA06 ,  2H096GA11 ,  2H096GA18 ,  2H096GA60 ,  2H096HA23 ,  2H096JA04 ,  5F046AA17 ,  5F046AA25 ,  5F046LA12 ,  5F046LA14 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (4件)
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