特許
J-GLOBAL ID：200903092938259612

イオンビーム照射装置及び当該装置用絶縁スペーサ

発明者：
伊東 克己

伊東 克己 について

, 
前川 和也

前川 和也 について

, 
武内 悦雄

武内 悦雄 について

, 
矢島 信男

矢島 信男 について


出願人/特許権者：
TDK株式会社

TDK株式会社 について


代理人 (12件)： 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司 ,  松井 孝夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-094332
公開番号（公開出願番号）：特開2005-276790
出願日： 2004年03月29日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 イオンビーム照射装置のグリッド間に配置される絶縁スペーサの交換頻度を低減する。【解決手段】 グリッド間の絶縁を保持するために配置されるいわゆる絶縁スペーサに関して、スパッタされた物質の再付着が困難な底面を有する溝部が、絶縁スペーサ側面中央部を周回するように配置する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
プラズマを内部に生成するプラズマ生成室と、前記プラズマ生成室と接続される処理室とからなり、前記プラズマ生成室から前記処理室に前記プラズマ中のイオンを引き出すために前記プラズマ生成室と前記処理室室との間に、各々多数の小孔を有する複数のグリッドが配置されたイオンビーム照射装置であって、 前記複数のグリッド各々の間に配置されて前記グリッド各々が電気的に接触することを防止する絶縁スペーサを更に有し、 前記絶縁スペーサは、前記絶縁スペーサの軸方向断面において前記イオンビームの引き出し方向とは異なる方向に形成される凹部として示される溝部が、前記絶縁スペーサにおける前記グリッドとの当接面と異なる面上において前記絶縁スペーサ周囲を周回するように形成されていることを特徴とするイオンビーム照射装置。
IPC (3件)：
H01J27/02 ,  C23C14/48 ,  H01J37/08
FI (3件)：
H01J27/02 ,  C23C14/48 Z ,  H01J37/08
Fターム (2件)：
4K029CA10 ,  5C030DE04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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