特許
J-GLOBAL ID：200903093059523825
プラズマ処理装置及び処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
鈴木 市郎
, 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-024231
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235545
出願日： 2003年01月31日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
【課題】真空真空容器内壁に堆積する堆積膜を制御することにより量産安定性に優れたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】真空処理室2の一部を構成するとともに処理ガスの吹き出し口を備えたガスリングと、前記ガスリングの上部を被覆して真空処理室を形成するベルジャ12と、前記ベルジャ12上部に配置し、前記真空処理室内に高周波電界を供給してプラズマを生成するアンテナ1a,1bと、前記真空処理室内に試料13を載置する載置台5と、前記アンテナ1a,1bとベルジャ12間に配置するとともに高周波バイアス電圧が付与されるファラデーシールド8と、前記処理ガスの吹き出し口を除く前記ガスリング内面に着脱自在に取り付けた防着板からなり、前記試料面から見込むことのできる防着板を含むガスリング内面の面積を前記試料の面積の略1/2以上に設定した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空処理室の一部を構成するとともに処理ガスの吹き出し口を備えたガスリングと、
前記ガスリングの上部を被覆して真空処理室を形成するベルジャと、
前記ベルジャ上部に配置し、前記真空処理室内に高周波電界を供給してプラズマを生成するアンテナと、
前記真空処理室内に試料を載置する載置台と、
前記アンテナとベルジャ間に配置するとともに高周波バイアス電圧が付与されるファラデーシールドと、
前記処理ガスの吹き出し口を除く前記ガスリング内面に着脱自在に取り付けた防着板からなり、
前記試料面から見込むことのできる防着板を含むガスリング内面の面積を前記試料の面積の略1/2以上に設定したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
5F004AA13
, 5F004BA20
, 5F004BB11
, 5F004BB13
, 5F004BB29
, 5F004BB32
, 5F004CA09
