特許
J-GLOBAL ID：200903093066526767

導電性パターン形成体の製造方法

発明者：
小林 弘典

小林 弘典 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-249608
公開番号（公開出願番号）：特開2003-209340
出願日： 2002年08月28日
公開日（公表日）： 2003年07月25日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 高精細なパターンを形成することが可能であり、かつ簡便な工程で形成が可能である導電性パターンの製造方法を提供する。【解決手段】 光触媒を含有する光触媒含有層2および基材を有する光触媒含有層側基板3を調製する工程と、上記光触媒含有層2中の光触媒の作用により表面の特性が変化する特性変化層5を有するパターン形成体用基板6を調製する工程と、上記光触媒含有層2および上記特性変化層5が接触するように配置した後、所定の方向からエネルギー8を照射することにより、上記特性変化層5表面に特性の変化した特性変化パターン9を形成する工程と、上記パターン形成体用基板6表面に、金属コロイド溶液を塗布することにより、パターン状に金属コロイド溶液を付着させる工程と、上記特性変化パターンにパターン状に付着した金属コロイド溶液を固化させて導電性パターン11とする工程とを有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光触媒を含有する光触媒含有層および基材を有する光触媒含有層側基板を調製する光触媒含有層側基板調製工程と、前記光触媒含有層中の光触媒の作用により表面の特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、前記光触媒含有層および前記特性変化層が接触するように配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記特性変化層表面に特性の変化した特性変化パターンを形成する特性変化パターン形成工程と、前記特性変化パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、金属コロイド溶液を塗布することにより、パターン状に金属コロイド溶液を付着させる金属コロイド溶液塗布工程と、前記特性変化パターンにパターン状に付着した金属コロイド溶液を固化させて導電性パターンとする導電性パターン形成工程とを有することを特徴とする導電性パターン形成体の製造方法。
IPC (4件)：
H05K 3/10 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/38 511 ,  H05K 1/09
FI (4件)：
H05K 3/10 Z ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/38 511 ,  H05K 1/09 A
Fターム (37件)：
2H025AA02 ,  2H025AA19 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BH03 ,  2H025CB33 ,  2H025FA12 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA01 ,  2H096BA20 ,  2H096FA05 ,  2H096FA10 ,  4E351AA01 ,  4E351AA07 ,  4E351AA14 ,  4E351BB01 ,  4E351CC08 ,  4E351CC10 ,  4E351CC27 ,  4E351DD05 ,  4E351DD06 ,  4E351DD51 ,  4E351GG20 ,  5E343AA02 ,  5E343AA12 ,  5E343AA22 ,  5E343AA37 ,  5E343BB23 ,  5E343BB25 ,  5E343BB80 ,  5E343DD80 ,  5E343EE37 ,  5E343ER35 ,  5E343GG08
引用特許：
審査官引用 (7件)
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