基板処理装置管理システム、基板処理装置、基板処理装置管理方法、プログラム、および、記録媒体

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-270584
公開番号（公開出願番号）：特開2003-077822
出願日： 2001年09月06日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：

【要約】【課題】オペレータの作業負担を軽減させながら、基板処理装置の初期設定操作を容易、かつ、確実に行うネットワークシステムを提供することを課題とする。【解決手段】基板処理装置1は、制御プログラム152と装置基本データ151bによって初期動作が決定される。サポートコンピュータ3は、制御プログラム152のバージョンごとに管理された装置基本データ151bを蓄積している。基板処理装置1の基本データ要求部121は、サポートコンピュータ3の基本データ設定部321に対して基本データの送信要求を送出する。この際、バージョン取得部122によって取得した制御プログラム152のバージョンがあわせて通知される。これにより、基本データ設定部321は、バージョンに対応した装置基本データ151bを基板処理装置1に送信する。基板処理装置1では、基本データ登録部123によって、受信した装置基本データ151bが登録される。

請求項（抜粋）：

基板処理装置とサポートコンピュータとを備える基板処理装置管理システムであって、前記基板処理装置と前記サポートコンピュータとはネットワークを介して接続されており、前記サポートコンピュータは、a-1)基板処理装置の初期設定時に必要な基本情報を格納する第1の記憶手段と、a-2)前記基本情報を前記ネットワークを介して前記基板処理装置に送信する基本情報送信手段と、を備え、前記基板処理装置は、b-1)前記サポートコンピュータより受信した基本情報を格納する第2の記憶手段、を備え、前記基板処理装置は、前記第2の記憶手段に格納された基本情報によって、初期状態が整備されることを特徴とする基板処理装置管理システム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B05C 21/00 , G05B 19/418

FI (4件)：

B05C 21/00 , G05B 19/418 Q , H01L 21/30 562 , H01L 21/30 502 G

Fターム (7件)：

3C100AA65 , 3C100AA68 , 3C100CC02 , 3C100EE06 , 4F042AA06 , 4F042ED08 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (4件)

半導体製造装置のレシピ運用システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-310058 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-335885 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
デバイス製造装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-096882 出願人：キヤノン株式会社

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審査官引用 (1件)

半導体製造装置のレシピ運用システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-310058 出願人：東京エレクトロン株式会社

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