特許

J-GLOBAL ID：200903093225622870

リソグラフィ装置

発明者： ドエデ フランス クイペル ,  ヨハン コルネリス コムプテル ,  ヤン ファン エイュク ,  ヤコブス フレデリック モレナール ,  デーヴィッド クリストファー オクウェル ,  ヨハネス ヴィルヘルムス マリア コーネリス テーウヴァセン ,  マルクス ペトルス ファン ドイルセン ,  ゲルブラント ペトルス ヨハネス ファン デン ホーフェン ,  ミハエル ヨハネス フェルフォールデルドンク ,  ミハエル ゲラルデュス パルドエル ,  ゲラルデュス ヨハネス フェルドエス ,  ゲラルト ヨハネス ピーター ニユッセ ,  ペテル フェルディナント グレーフェ ,  ヤン ファン フォールシュト ,  マルクス マルティヌス ペトルス アドリアヌス フェルモイレン ,  アントワーヌ ヘンドリック フェルヴェイユ
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  岩本 行夫 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-158484
公開番号（公開出願番号）：特開2004-363589
出願日： 2004年05月28日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】走査中及び静止露光中に、リソグラフィ投影装置のマスクの一部を効果的にマスキングし得る装置及び方法を提供すること。【解決手段】パターン化されたビームを基板上に結像する前に投影ビームをパターン化するために使用されるパターン化手段の少なくとも一部を覆い隠すためのマスキング・デバイスを有するリソグラフィ投影装置。マスキング・デバイスは、第1の方向において上記パターン化手段の上記一部を覆い隠すための第1のマスキング手段及び第2の異なる方向において上記一部を覆い隠すための第2のマスキング手段を含み、上記第1及び第2のマスキング手段は互いに関して機械的に結合されない構成で上記焦点面の近傍に配置される。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置であって、 放射線の投影ビームを供給するための照射システムであって、使用中に前記投影ビームが通過する焦点面を規定する照射システムと、 所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するように機能するパターン化手段を1つの位置に支持するための支持構造と、 前記投影ビームから前記パターン化手段の少なくとも一部を覆い隠すためのマスキング・デバイスであって、前記位置に関して第1の方向において前記部分を覆い隠すように構成される第1のマスキング手段及び前記位置に関して第2の異なる方向において前記部分を覆い隠すように構成される第2のマスキング手段を含むマスキング・デバイスと、 基板を保持するための基板テーブルと、 前記パターン化されたビームを前記基板の目標部分上に結像させるための投影システムとを含むリソグラフィ投影装置において、 前記第1及び第2のマスキング手段は、互いに関して機械的に結合されない構成において、前記焦点面の近傍に配置されることを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (1件)：

H01L21/30 515D

Fターム (6件)：

5F046BA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01 ,  5F046DA26

引用特許：

審査官引用 (12件)

• 走査露光装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-272886   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平2-073618
  
• 特開平3-011613
  
• 露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-035929   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭60-045252
  
• リソグラフ投影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-104078   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• X線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-067939   出願人：三菱電機株式会社
• 流体軸受けモータ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-026712   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭63-095399
  
• 光照射装置のシャッタ機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-229449   出願人：ウシオ電機株式会社
• 露光装置、露光方法、デバイス製造方法、並びに、デバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-203177   出願人：キヤノン株式会社
• ステ-ジ装置及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-015399   出願人：株式会社ニコン