特許
J-GLOBAL ID：200903093471390848

マスクパターン形状計測評価装置および形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体

発明者：
福島 祐一

福島 祐一 について

, 
米倉 勲

米倉 勲 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276143
公開番号（公開出願番号）：特開2001-101414
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】微細なパターンを含むフォトマスクのパターン形状の定量的な計測を可能にすることにより、正確かつ高精度な形状計測評価装置及び形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体を提供する。【解決手段】マスクパターンの形状計測評価装置において、マスクパターン画像データを入力し、これをコンピュータ処理してパターン形状データを抽出した後、所定の形状特性値を計測処理することにより、パターン形状を評価することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
マスクパターンの形状計測評価装置において、マスクパターン画像データを入力し、これをコンピュータ処理してパターン形状データを抽出した後、所定の形状特性値を計測処理することにより、パターン形状を評価することを特徴とする、マスクパターン形状計測評価装置。
IPC (2件)：
G06T 7/00 ,  G01B 11/24
FI (3件)：
G06F 15/62 405 A ,  G01B 11/24 K ,  G01B 11/24 F
Fターム (26件)：
2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065JJ03 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR05 ,  2F065RR08 ,  5B057AA03 ,  5B057BA11 ,  5B057CE05 ,  5B057CE12 ,  5B057CF01 ,  5B057CH01 ,  5B057CH11 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DC03 ,  5B057DC09 ,  5B057DC16
引用特許：
審査官引用 (14件)
  • 特開昭62-148838
  • 特開平4-198741
  • 特開昭62-148838
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM