特許
J-GLOBAL ID:200903093642224232
反射防止膜の形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
長谷川 芳樹
, 清水 義憲
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2006311598
公開番号(公開出願番号):WO2006-132351
出願日: 2006年06月09日
公開日(公表日): 2006年12月14日
要約:
本発明は、ガラス体の表面上に形成されている反射防止膜の前駆体を含む塗膜の焼結処理と、ガラス体の強化処理とが同時に行われる工程を有する反射防止膜の形成方法を提供する。これにより、十分に低コストで反射防止膜を形成できる。
請求項(抜粋):
ガラス体の表面上に形成されている反射防止膜の前駆体を含む塗膜の焼結処理と、前記ガラス体の強化処理と、が同時に行われる工程を有する反射防止膜の形成方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G02B1/10 A
, G09F9/00 313
Fターム (9件):
2K009AA02
, 2K009CC03
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 2K009DD06
, 5G435AA17
, 5G435HH03
, 5G435HH20
, 5G435KK07
引用特許:
出願人引用 (12件)
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特開昭58-116507号公報
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反射防止膜の成膜方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-152848
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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反射防止膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-056158
出願人:住友大阪セメント株式会社
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ペリクル
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-328012
出願人:三井化学株式会社
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特開昭62-226840号公報
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特開平1-312501号公報
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特開平3-199043号公報
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反射防止塗装層
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-126211
出願人:エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペンファブリケン
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多孔質光学材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-163248
出願人:大日本印刷株式会社
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低反射ガラスおよびその製法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-303711
出願人:セントラル硝子株式会社
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反射防止被膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-291686
出願人:積水化学工業株式会社
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光学薄膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-318943
出願人:キヤノン株式会社
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