特許
J-GLOBAL ID：200903093843293321

クリーンルーム

発明者：
中川 敏明

中川 敏明 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-340292
公開番号（公開出願番号）：特開2002-147811
出願日： 2000年11月08日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】【課題】 半導体ウエハのような処理対象物の汚染を防止できると共に、ケミカルフィルタについてのランニングコストを低減できるクリーンルームを提供する。【解決手段】 処理対象物を処理するための機器本体14が設置された機器設置エリア3e,3fと、処理対象物が上記機器本体14にロード又はアンロードされるプロセスエリア4と、上記機器14に対する操作が行われるオペレーションエリア2とを、この順に間仕切り42,43を介して水平方向に並んだ状態に有する。機器設置エリア3e,3f、プロセスエリア4、オペレーションエリア2の空調は互いに独立して行われる。
請求項（抜粋）：
処理対象物を処理するための機器本体が設置された機器設置エリアと、処理対象物が上記機器本体にロード又はアンロードされるプロセスエリアと、上記機器に対する操作が行われるオペレーションエリアとを、この順に間仕切りを介して水平方向に並んだ状態に有するクリーンルームであって、上記機器設置エリア、プロセスエリア、オペレーションエリアの空調は互いに独立して行われることを特徴とするクリーンルーム。
IPC (2件)：
F24F 7/06 ,  E04H 5/02
FI (2件)：
F24F 7/06 C ,  E04H 5/02 B
Fターム (3件)：
3L058BE02 ,  3L058BF01 ,  3L058BG03
引用特許：
審査官引用 (13件)
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