特許
J-GLOBAL ID:200903093924614645
ダイヤモンド薄膜及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤巻 正憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-067841
公開番号(公開出願番号):特開2002-265296
出願日: 2001年03月09日
公開日(公表日): 2002年09月18日
要約:
【要約】【課題】 広面積且つ極薄であり、表面が平坦でピンホールがないと共に基板との密着性が高く、優れた熱伝導性及び透過性を備えたダイヤモンド薄膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 ダイヤモンド薄膜は、マイクロ波プラズマCVD法により、投入するマイクロ波パワーをM(単位:kW、M>3kW)、プラズマチャンバ内の圧力をP(単位:Pa)としたとき、マイクロ波パワーに対する圧力の比P/Mを359乃至439に維持すると共に、合成時の表面温度を500°C以下に維持して成膜する。これにより、表面積をa、膜厚tとしたとき、表面積に対する膜厚の比t/aが3×10-5(m-1)以下であるダイヤモンド薄膜が得られる。
請求項(抜粋):
表面積をa、膜厚tとしたとき、表面積に対する膜厚の比t/aが3×10-5(m-1)以下であることを特徴とするダイヤモンド薄膜。
IPC (3件):
C30B 29/04
, C01B 31/06
, C23C 16/27
FI (3件):
C30B 29/04 E
, C01B 31/06 A
, C23C 16/27
Fターム (18件):
4G046GA01
, 4G077AA03
, 4G077BA03
, 4G077DB19
, 4G077EA02
, 4G077EA04
, 4G077TA04
, 4G077TA07
, 4G077TK01
, 4K030BA28
, 4K030CA04
, 4K030CA05
, 4K030CA06
, 4K030FA01
, 4K030JA01
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030JA16
引用特許:
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