特許
J-GLOBAL ID：200903094225299730
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-329108
公開番号（公開出願番号）：特開平10-152784
出願日： 1996年11月25日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】【課題】 ダストが発生しないプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 プラズマ処理装置1が有する真空槽12の誘電体部材121付近に高周波アンテナ15を配置し、高周波電力を投入して真空槽12内に導入したプラズマ用ガスとの誘導結合によってプラズマを発生させる。誘電体部材121の一部を覆うクリーニング電極7aを誘電体部材121付近に配置し、プラズマと静電結合できるように構成しておく。クリーニング電極7aには、高周波アンテナ15とは位相のずれた電圧が印加しながら移動させ、クリーニング電極7aの腕部72に誘電体部材121表面を走査させると、誘電体部材121表面にはポリマーが付着せず、また、一旦付着したポリマーを除去することができる。
請求項（抜粋）：
槽壁の少なくとも一部が誘電体部材で構成された真空槽と、前記誘電体部材の真空槽外部側に配置された高周波アンテナとを有し、前記真空槽内にプラズマ用ガスを導入し、前記高周波アンテナに高周波電力を投入すると、前記高周波アンテナと前記プラズマ用ガスとの誘導結合によって、前記真空槽内にプラズマを発生できるように構成されたプラズマ処理装置であって、前記誘電体部材の一部を覆うクリーニング電極が前記誘電体部材付近に配置され、前記真空槽内に発生したプラズマと静電結合できるように構成され、前記クリーニング電極には移動手段が設けられ、前記誘電体部材表面を走査できるように構成されたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, C23C 16/50
, H01L 21/3065
C23F 4/00 A
, C23C 16/50
, H01L 21/302 N
