特許
J-GLOBAL ID：200903094416475202

表示装置及びその製造方法

発明者：
田中 勉

田中 勉 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-027966
公開番号（公開出願番号）：特開2002-229062
出願日： 2001年02月05日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：
【要約】【課題】 アクティブマトリクス表示装置に形成される平坦化膜に局所的な厚みの違いを設けてパネル構造を改善する。【解決手段】 表示装置は、所定の間隙を介して互いに接合した一対の基板1,2と液晶3とからなるパネル構造を有し、一方の基板1には、薄膜トランジスタの集合4と、これらを被覆する平坦化膜5と、平坦化膜5の上に配された画素電極の集合とが形成され、他方の基板2には、画素電極の集合に対面する対向電極が形成されている。平坦化膜5は感光性材料からなり、露光処理により基板1内で異なった厚みを有する様に形成されている。即ち、各画素電極に異なった表示色が割り当てられており、平坦化膜5は、各画素電極に対応する部分の厚みが各画素電極に割り当てられた表示色の波長に応じて異なるように形成されている。なお、基板1は、画素電極とこれを駆動する薄膜トランシ ゙スタとで構成された画素アレイ部と、画素アレイ部を駆動する為に薄膜トランシ ゙スタで構成された駆動回路部とを含む。この場合、平坦化膜は、画素アレイ部と駆動回路部とで厚みが異なっていても良い。
請求項（抜粋）：
所定の間隙を介して互いに接合した一対の基板と、該間隙に保持される電気光学物質とからなるパネル構造を有し、一方の基板には、薄膜トランジスタの集合と、これらを被覆する平坦化膜と、該平坦化膜の上に配された画素電極の集合とが形成され、他方の基板には、該画素電極の集合に対面する対向電極が形成されている表示装置において、前記平坦化膜は感光性材料からなり、露光処理により該一方の基板内で異なった厚みを有する様に形成されていることを特徴とする表示装置。
IPC (7件)：
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 520 ,  G02F 1/1343 ,  G09F 9/30 330 ,  G09F 9/30 348 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (7件)：
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 520 ,  G02F 1/1343 ,  G09F 9/30 330 Z ,  G09F 9/30 348 Z ,  H01L 29/78 612 D ,  H01L 29/78 619 A
Fターム (45件)：
2H091FA02Y ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FA14Y ,  2H091FB04 ,  2H091FC23 ,  2H091FC26 ,  2H091GA03 ,  2H091GA13 ,  2H091GA16 ,  2H091LA17 ,  2H092GA26 ,  2H092GA59 ,  2H092JA24 ,  2H092JB05 ,  2H092JB07 ,  2H092KB22 ,  2H092KB25 ,  2H092MA14 ,  2H092MA17 ,  2H092NA01 ,  2H092PA12 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA14 ,  5C094EA04 ,  5C094EA07 ,  5F110AA16 ,  5F110BB02 ,  5F110CC08 ,  5F110EE28 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110HM18 ,  5F110NN05 ,  5F110NN16 ,  5F110NN27 ,  5F110NN72 ,  5F110QQ01
引用特許：
審査官引用 (11件)
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