EUV光を用いた露光装置および露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西山恵三 , 内尾裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-116805
公開番号（公開出願番号）：特開2005-302998
出願日： 2004年04月12日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：

【課題】プラズマ光源からの光線に含まれる赤外線によるレチクルやウエハの加熱に伴う転写パターンの位置精度の低下を防止した、安定して微細なパターンの転写ができるEUV光を用いた露光装置、および当該露光装置を用いた露光方法を提供する。【解決手段】プラズマ光源を用いたEUV露光装置において、当該プラズマ光源からの光線を所定の構造を有するブレーズ型回折格子で反射させることにより、当該光線のうちからEUV光をその他の不要光と分離して取り出すことが可能となり、不要な光線が露光装置の光学系に入射することを防止する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

プラズマ光源を用いたEUV露光装置において、当該プラズマ光源からの光束を導光する光路中にブレーズ型回折格子構造を有する光学素子を備え、当該光束からEUV光を空間的に分離して露光に用いることを特徴とするEUV露光装置。

IPC (6件)：

H01L21/027 , G02B5/18 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/02

FI (6件)：

H01L21/30 531A , G02B5/18 , G03F7/20 521 , G21K1/06 B , G21K5/00 Z , G21K5/02 X

Fターム (7件)：

2H049AA07 , 2H049AA53 , 2H049AA55 , 2H049AA63 , 5F046GA03 , 5F046GB01 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開平1-175736号

審査官引用 (7件)

超紫外線リソグラフィーコンデンサに用いる回折スペクトルフィルタ
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-517558 出願人：イーユーヴィーリミテッドリアビリティコーポレーション
リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造したデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-311579 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
パターン形成方法、投影露光装置、光学系及びその設計方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-084901 出願人：株式会社日立製作所

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