特許
J-GLOBAL ID：200903094835666336
精密研磨装置および精密研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-132863
公開番号（公開出願番号）：特開平10-074717
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：
【要約】【課題】 研磨ユニットにおいて発生した研磨粉等がウエハの洗浄ユニット等を汚染するのを防ぐ。【解決手段】 ローディングユニット1に搬入されたウエハW1 は移送ロボット室11の移送ロボット11aによってウエハストッカーユニット2へ搬送され、続いて研磨ユニット3へ送られて研磨される。研磨後のウエハW1 は、予洗ユニット4、洗浄ユニット5等を経て乾燥ユニット7において乾燥後、アンローディングユニット8から取り出される。各ユニットや移送ロボット室11等は密封室を構成し、各密封室の雰囲気圧力を、研磨ユニット3に近づくほど低くなるように制御することで、研磨ユニット3の研磨粉等が周辺のユニット等に侵入するのを防ぐ。
請求項（抜粋）：
研磨手段を備えた第1の密封室と、第2の密封室を介して前記第1の密封室に連通自在である第3の密封室と、前記第1および前記第3の密封室と前記第2の密封室の間を交互に連通させる第1および第2の開閉手段と、少なくとも前記第1の開閉手段を開くときに前記第1の密封室の雰囲気圧力が前記第2の密封室の雰囲気圧力より低くなるように両密封室の前記雰囲気圧力を制御する雰囲気圧力制御手段を有する精密研磨装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 321
, H01L 21/304
H01L 21/304 321 E
, H01L 21/304 321 A
