特許
J-GLOBAL ID：200903094841256735
基板のスピン洗浄・乾燥装置および洗浄・乾燥方法
出願人/特許権者：
株式会社岡本工作機械製作所
株式会社岡本工作機械製作所 について
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-028948
公開番号（公開出願番号）：特開2002-231689
出願日： 2001年02月06日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
要約：
【要約】【課題】 基板の洗浄、スピン乾燥に要する時間の短縮。【解決手段】 第1基板保持手段の複数の保持ロ-ラ83に端面を保持され、水平方向に回転されている基板W'の上面および下面に洗浄液を供給しつつ回転するブラシを当接して基板をスクラブ洗浄した後、基板の回転を止め、ブラシ9を基板面より後退させた後、保持ロ-ラの一部を後退させて基板端面の保持ロ-ラによる抑えを開放し、ついで第2基板保持手段を上昇させ、治具70のア-ム71先端に起立している把持具72,73に基板の端面を当接させて基板をア-ムより浮かして保持し、第2基板保持手段の把持具に保持された基板を回転させ、回転している基板の上面および下面に乾燥気体供給機構11a,11bより空気を供給して基板をスピン乾燥させる。
請求項（抜粋）：
装置の中央に設けられた水平方向に回転可能で上下方向に昇降可能な回転軸、該回転軸の頭頂部に設けられた複数のア-ムを有する治具の前記ア-ム先端に起立して設けられた把持具に基板の少なくとも3箇所の端面を当接させて基板をア-ムより浮かして保持する第2基板保持手段、端面に当接して基板を保持しつつ回転することができ、回転駆動源によって駆動される駆動ロ-ラを少なくとも1つ含む少なくとも3つの保持ロ-ラを含む第1基板保持手段、第1基板保持手段に端面を保持された基板の上面および下面をスクラブ洗浄する両面洗浄手段、両面洗浄手段のブラシを基板面に移動および基板面より後退させる移動手段、第1基板保持手段に端面を保持された基板の上面および下面に洗浄液を供給する洗浄液供給機構、および、第2基板保持手段に端面を保持された基板の上面および下面に気体を供給する乾燥気体供給機構、を備える基板のスピン洗浄・乾燥装置。(ただし、第2基板保持手段の複数のア-ムを有する治具を上下に昇降させた際、治具の複数のア-ムは、第1基板保持手段の保持ロ-ラに衝突しない空間を通過する。)
IPC (5件)：
FI (5件)：
Fターム (20件)：
3B116AA01
, 3B116AB33
, 3B116BA02
, 3B116BA12
, 3B116BB24
, 3B116CC01
, 3B116CC03
, 3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB08
, 3B201AB33
, 3B201AB47
, 3B201BA02
, 3B201BB24
, 3B201BB90
, 3B201BB93
, 3B201BB98
, 3B201CC01
, 3B201CC12
, 3B201CC13
引用特許：
出願人引用 (4件)
-
基板洗浄装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願平10-358224 出願人：株式会社荏原製作所 -
ウェハ両面洗浄・乾燥装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願平8-255762 出願人：芝山機械株式会社 -
洗浄装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願平9-362688 出願人：東京エレクトロン株式会社
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