特許
J-GLOBAL ID：200903095225597355
マイクロ化学デバイスの洗浄方法とそれを用いた光学活性エポキシドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-388864
公開番号（公開出願番号）：特開2005-144634
出願日： 2003年11月19日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：
【課題】マイクロ化学デバイスをもちいて反応を行うにあたり流路壁面などマイクロ化学デバイスに吸着された試料を洗浄により速やかに除去し、迅速かつ高効率な反応や分析を実現し、さらには高価なマイクロデバイスを長期間使用可能にすることを課題とするものである。【解決手段】マイクロ化学デバイスに酸化剤を導入し吸着された試料を洗浄する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
反応後のマイクロ化学デバイスに酸化剤水溶液を通液することを特徴とするマイクロ化学デバイスの洗浄方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
3B201AA46
, 3B201AB01
, 3B201BB95
, 3B201BB96
, 3B201BB98
出願人引用 (3件)
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化学用マイクロデバイス及びその使用方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-331865
出願人：伊永隆史, スターライト工業株式会社
-
洗浄方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-309172
出願人：東京エレクトロン株式会社, 三菱瓦斯化学株式会社
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オレフィンをエポキシ化する方法
公報種別：公表公報
出願番号：特願2001-580895
出願人：メルクパテントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフトング
審査官引用 (5件)
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