特許
J-GLOBAL ID：200903095287123740
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
梁瀬 右司
, 振角 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-045658
公開番号（公開出願番号）：特開2004-259734
出願日： 2003年02月24日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：
【課題】基板の表面への紫外線照射と同表面への処理液供給とにより該基板表面に対して所定の基板処理を施す基板処理装置において、汎用性を高めるとともに、紫外線照射の効率を高めて基板処理を良好に行う。【解決手段】ランプ昇降駆動部によってランプユニット9を上下方向に昇降させることで支持ピン2とランプユニット9との距離Lを変更可能となっている。そして、支持ピン2に対する基板Wの搬入出時には、ランプユニット9を搬入出位置に位置決めしてランプユニット9と搬入出される基板Wとの干渉が回避されるように該距離Lが十分に広く設定されている。一方、基板表面WSに紫外線を照射する際には、ランプユニット9を照射位置にまで下降させて支持ピン2に保持された基板Wの表面WSとランプユニット9の照射面94のギャップを調整した上で基板表面WSに向けて紫外線を照射している。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、
前記基板の表面に対向する照射面を有し、該照射面から紫外線を前記基板の表面に向けて射出する紫外線照射手段と、
前記基板保持手段および前記紫外線照射手段の少なくとも一方を移動させて前記基板保持手段と前記紫外線照射手段との距離を調整させる距離調整手段と、
前記距離調整手段を制御することで、前記基板保持手段に対する基板の搬入出に際しては前記紫外線照射手段と搬入出される基板との干渉が回避されるように前記距離を十分に広げる一方、前記紫外線照射手段から前記基板表面への紫外線照射に際しては前記基板保持手段と前記紫外線照射手段とを相互に接近移動させて前記照射面と前記基板表面とのギャップを調整する制御手段とを備え、
前記基板表面への紫外線照射と前記基板表面への処理液供給により前記基板表面に対して所定の基板処理を施すことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (5件)：
H01L21/304 645D
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 648F
, H01L21/304 651B
, H01L21/306 J
5F043DD08
, 5F043DD13
, 5F043EE07
, 5F043EE08
, 5F043EE12
, 5F043EE22
, 5F043EE24
, 5F043EE35
