特許
J-GLOBAL ID：200903095336871170

レジスト組成物

発明者：
田中 徹則

田中 徹則 について

, 
牧沢 克憲

牧沢 克憲 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (2件)： 後藤 幸久 ,  壬生 優子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-345760
公開番号（公開出願番号）：特開2007-148258
出願日： 2005年11月30日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】 レジスト調製時の溶解性、現像時のレジスト膜密着性の特性を高めるだけでなく、レジスト安定性を向上させ、安全性にも優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】 レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤としてシクロヘキサノールアセテートを含むレジスト組成物。このレジスト組成物においては2種以上の有機溶媒を組み合わせてもよい。有機溶剤の好ましい組み合わせとして、シクロヘキサノールアセテートとシクロヘキサノールの組み合わせが挙げられる。前記レジスト組成物において、さらに有機溶剤として、カルボン酸アルキルエステル類、脂肪族ケトン類、グリコールエーテル類及びグリコールエーテルアセテート類から選ばれた少なくとも1種の溶剤を含んでいてもよい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤としてシクロヘキサノールアセテートを含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  G02B 5/20
FI (3件)：
G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  G02B5/20 101
Fターム (13件)：
2H025AA11 ,  2H025AA14 ,  2H025AB13 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CC03 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM