特許
J-GLOBAL ID：200903095463191570
ガスバリア性フィルム及びその製造方法並びにその製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-371728
公開番号（公開出願番号）：特開2004-203935
出願日： 2002年12月24日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：
【課題】本発明では、前述した膜の付着などが問題となるプラズマCVD法を用いることなく、着色がなく、高透明性、高いガスバリア性のある、フィルム及びその製造方法並びにその製造装置を提供することにある。【解決手段】プラズマを発生させ、フィルムの一方の面にプラズマから供給されるイオンを印加した高電圧パルスにより加速し、フィルム中にイオン注入するフィルムの製造方法であって、該高電圧パルスの電圧が、負の電圧であり絶対値が2kVより大きい電圧で、かつ該高電圧パルス電圧の立ち上がりが、負の方向で1μs当たり絶対値が1kV以上であることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法としたものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
イオン注入することにより、フィルム表面より1μm以内の深さの位置に高密度層を形成されてなることを特徴とするガスバリア性フィルム。
IPC (3件)：
C08J7/00
, H05H1/24
, H05H1/46
C08J7/00 306
, C08J7/00
, H05H1/24
, H05H1/46 A
4F073AA17
, 4F073BA24
, 4F073CA07
, 4F073CA09
, 4F073CA10
, 4F073CA62
, 4F073CA63
, 4F073CA64
, 4F073CA65
, 4F073CA69
